キヤノンは、ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置用のマスク(テンプレート)を低コストで複製する、量産用テンプレートレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」を開発し販売を始めた(ニュースリリース1)。キヤノンは2004年よりナノインプリント技術を用いた半導体製造装置の研究開発を続けており、ナノインプリント向け量産用テンプレートレプリカ製造装置の商用化は今回が世界で初めてだという。

量産用テンプレートレプリカ製造装置「FPA-1100NR2」 キヤノンの写真。
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 同装置は、まず、大日本印刷(DNP)に納入される。DNPは次世代の3D(3次元)構造のNAND型フラッシュメモリーの需要増加と低コスト化に向けて活用するという(ニュースリリース2)。すなわち、同装置を2017年3月に導入して、東芝などの半導体メーカーへ10nm台のナノインプリント露光向けテンプレートの供給を開始する。

 キヤノンとDNPによれば、ナノインプリント露光技術は10nm台といった微細な回路パターンを、既存の光露光技術より低コストで実現できる。例えば、ナノインプリント露光技術はテンプレートから直接回路パターンを転写して複製するため、高価な光学系の設備を使用せずに比較的安価な露光装置での製造が可能である。また、製造工程を簡略化できるため、従来の光露光技術による製造方法に比べて約1/3の大幅なコストダウンが期待されるという。

ナノインプリント露光とは キヤノンの図。
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