「MB-MDP(Model-Based Mask Data Preparation)」と呼ぶ半導体製造用技術の推進団体(アライアンス)である米eBeam Initiativeは、「Photomask Japan 2012」(2012年4月17日~19日にパシフィコ横浜で開催)と同じ会場で、4月19日にプライベート・セミナーを行った。このセミナーでは、日本のHOYAと米GLOBALFOUNDRIES, Inc.が同技術のユーザーとして登壇した。

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