日本ゼオンは,比誘電率が2.6から3.0と低い値を持つ塗布型絶縁膜を開発した。優れた電気絶縁性,防水・防湿性,透明性を持ち,高機能・高品質が求められる次世代の電子デバイス用の絶縁膜や保護膜への適用を目指している。横浜で開催されている「FPD International 2008」で展示している。

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