米IBM Corp.と米Sony Computer Entertainment of America社は,2008年2月3日から米国サンフランシスコで開催中の半導体関連の国際学会「ISSCC 2008」において,45nm版のCellの設計について発表した(講演番号4.3)。IBM社が開発したレイアウト支援ツール「MASH」や,同じく内製のDFM向け設計チェック・ツールなどを活用して,Cellの設計を65nm版から45nm版に移行する作業の多くを自動化したという。

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