米マイクロンテクノロジー(Micron Technology)は、マイクロンメモリ ジャパン(旧エルピーダメモリ)の広島工場(Fab15)に新棟となる「B棟」を増設した。同工場では10年ぶりの新設で、マイクロンテクノロジーの中で最大のDRAM工場となったという。4階建ての建物で、3階に約70m×100mのクリーンルームを備えており、同工場としては10%の増床に当たるという。

 また、同工場をDRAMに関する中核拠点「マイクロン先端技術DRAMセンター・オブ・エクセレンス」とし、技術開発や製品エンジニアリング、製造・品質部門などの機能を集約した。開発・生産の効率を向上させるとする。2019年6月11日に同拠点のオープニングセレモニーを開催し、報道陣に内部の一部を公開した。

「先端技術 DRAM センター・オブ・エクセレンス」オープニングセレモニーの様子
マイクロンテクノロジーのPresident and Chief Executive OfficerであるSanjay Mehrotra氏らが参加した(撮影:日経 xTECH)
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