ベンチャー企業のFLOSFIA(本社・京都)は、10μm以下の微細な構造にさまざまな金属や合金の薄膜を形成できる技術を開発した。京都大学教授の藤田静雄氏らが開発した「ミストCVD法」を基にした技術で、金属や合金の薄膜形成に向けて、成膜装置の構造や原料に利用する溶液に変更を加えた。同社は「ミストドライめっき法」と呼ぶ。

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