コマツの100%子会社で、半導体露光装置向けレーザー光源を手掛けるギガフォトンは2013年7月1日、450mmウエハーに対応する露光装置向けArFエキシマ・レーザー光源「GT64A」の初号機を、露光装置メーカー向けに出荷したと発表した。リソグラフィを複数回繰り返して解像度を高めるマルチ・パターニングに対応する液浸露光装置向けの光源である。出力は120Wと大きく、マルチ・パターニングでも高いスループットを実現できるとする。今回の出荷開始は「450mmウエハーの量産化の加速と生産効率向上に貢献する」(ギガフォトン)としている。

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