米Cymer社は、オランダASML社の量産向けEUV(extreme ultraviolet)露光装置「NXE:3300B」に搭載するLPP(laser produced Plasma)方式のEUV光源に関する最新データを「SPIE Advanced Lithography」のポスター・セッションで発表した(論文番号8679-89)。

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