ニコンは、半導体リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography」(2013年2月24~28日、米国サンノゼ)に合わせて2013年2月24日(米国時間)に開催したプライベート・セミナー「LithoVision 2013」において、同社の露光技術開発の方向性を示した。

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